半導体製造
製造品質を高める湿度・排出ガス制御
半導体製造には、厳密に制御された乾燥環境が必要です。ムンタースのデシカント除湿機は、正確な湿度制御を実現し、製造と組み立てに理想的な製造環境を作り出します。
空気中の過剰な湿気は、回路ポイントの腐食、マイクロチップ回路表面の結露、フォトレジストの不適切な塗布の原因となり、半導体組み立てプロセスの動作不良を引き起こします。
世界をリードするムンタースのデシカントローター除湿システムは、空気中の湿気を効果的に除去し、ドライルームやクリーンルームの湿度を正確で一貫した制御で最適なレベルに維持します。
さらに、ムンタースのエネルギー効率に優れたゼオライト吸着技術は、半導体製造プロセスから排出される揮発性有機化合物 (VOC) を捕捉・処理します。大気中へのVOCの排出を防ぐことは、人々の健康と環境を守ることに役立ちます。
半導体製造向けアプリケーション
組立エリア
半導体や集積回路の製造時における過度の湿気は、ボンディングプロセスに悪影響を及ぼし、欠陥の増加につながります。
フォトレジストと呼ばれる感光性ポリマー化合物でエッチングプロセス用の回路ラインをマスキングすることは、確実で効果的なボンディングに役立ちます。
この材料は吸湿性があるため、水分を吸収すると微細な回路の切断やブリッジの原因となり、部品が故障する原因となります。
半導体製造向けVOC除害
ムンタースは、最適な空気環境を実現するだけでなく、揮発性有機化合物 (VOC) を含む排気を清浄化するVOC除害製品も幅広く提供しています。
半導体製造プロセスでは、VOCを多く含む排気が発生します。これらの化合物は人体や環境に有害であるため、大気中に排気を放出する前に化合物を低減する必要があります。VOCローター濃縮装置は、除害前にVOCを効果的に濃縮することで、排出低減コストの削減に役立ちます。
利点：
- 高い破壊効率
- 環境保護
- 規制要件に適合
- より健康的な作業環境
- 燃料/電気コストを大幅に削減
エピタキシャル装置の保護
水蒸気や湿気は、エピタキシャル装置の冷えた表面に結露し、部品の腐食を引き起こし、処理の遅延や動作不良の原因になります。
利点：
- 正確に制御された環境
- より高い品質
- 一貫性の向上
- より速い生産
- 運用コストの削減
ウエハー製造エリア
スピナーが製造中のウエハー表面に現像液を噴霧すると、溶媒は急速に蒸発し、表面が冷却されます。
その結果、空気中の水蒸気がウエハー表面で結露します。ウエハーに結露が生じると、現像液の特性が変化し始めます。また、吸湿によってポリマーが膨潤します。
相対湿度を制御することで、周囲空気の露点が低下し、ウェハー表面で結露が発生することがなくなり、故障や劣化を防ぎます。
より高速な真空ポンプダウン
過度の湿度は、大きな水蒸気負荷によるクライオポンプなどの真空装置の動作速度を低下させます。
相対湿度を下げるとバッチ処理速度が向上し、生産性が向上します。
フォトリソグラフィルーム
フォトリソグラフィルーム内の湿度が高すぎると、シリカが吸湿し、フォトレジストの塗布不良が発生し、応力による破損や表面の欠陥が発生します。
